作为 Nvidia GPU 技术大会 (GTC)的一部分，该公司宣布了一个新的软件库，它将支持 2nm 和更小的晶体管。该库名为 cuLitho，Nvidia 已经与世界上最大的半导体公司合作使用该技术，包括 TSMC 和 Synopsys。
该软件堆栈专为计算光刻而构建，计算光刻是将处理器组件蚀刻到硅晶圆中的过程。随着对更小制造工艺的需求增加，光刻技术变得更加复杂，但目前的技术已经达到了一个拐点。
Nvidia 表示 cuLitho 超越了这些限制，允许半导体品牌制造 2nm 甚至更小的晶体管。英特尔在 2021 年宣布其极紫外 (EUV) 光刻技术也将突破这些限制，该公司表示其即将推出的英特尔 4 节点将率先利用 EUV 光刻技术。
cuLitho 的不同之处在于它在 GPU 上运行。 Nvidia 表示，这种方法比目前的光刻技术快 40 倍，该公司声称每年占用数百亿个 CPU 小时。 Nvidia 表示，在 GPU 的掌控下，cuLitho 可以将功耗降低 9 倍于当前技术。根据 Nvidia 的说法，实际上，从 40,000 个 CPU 系统转移到 500 个 Nvidia DGX H100，结果相同。
似乎该行业也参与了这些进步。总部位于台湾的台积电是全球最大的半导体制造商，为 Nvidia 和 AMD GPU、苹果产品以及高通、联发科和博通的大部分芯片供应芯片。台积电 CEO CC Wei 表示，cuLitho 的推出“为半导体微缩的延续做出了重要贡献”。
这与 Nvidia 几个月前的立场不一致，当时 Nvidia 首席执行官黄仁勋以 GPU 价格上涨为由大胆宣称摩尔定律已经失效。根据 Nvidia 的说法，cuLitho 不仅绕过了这些瓶颈，而且用时更短。 Synopsys 首席执行官Aart de Geus 表示，过去需要数周才能完成的任务现在可以在 cuLitho 的帮助下在几天内完成。
Nvidia 的公告可能会加快一些全球最大的半导体品牌的时间表。根据最近的报道，苹果正在研究为下一代 MacBook 提供动力的3nm 芯片，此前据报道苹果放弃了在 2022 年转向更小节点的计划。